CAPACITÉ:    

Épaisseur du film: 135 ± 6,7 nm et 300 ± 45 nm

Non-uniformité de l’épaisseur de la tranche: 1% (1 sigma)

Non-uniformité d’épaisseur de tranche à tranche: 1% (1-sigma)

Taille de la tranche: 150 mm, 200 mm

Gaufrettes de production par charge: 50 – 100

Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1700 µm

Taux de dépôt de LSN: 1,5 nm / min

Plage de température: 600 – 800 ° C

Configuration de la chambre: Cross-flow

Gaz utilisés: dichlorosilane, ammoniac

Contrôle du débit massique de dichlorosilane: ± 0,1 sccm du débit cible.

Contrôle du débit massique d’ammoniac: ± 0,1 sccm du débit cible.

Capacité de nettoyage in situ automatisée à l’aide de trifluorure d’azote