Nanometrics Unifire 7900C

Nanometrics Unifire 7900C

Integrated microsystems laboratory (MEMS) / Metrology / 2D/3D Metrology tool

Nanometrics Unifire 7900C

Supplier :

Model :

Purpose :

Pattern Recognition Metrology System

CAPACITY

Provides multiple critical dimensions in one measurement

2D overlay and CD metrology

Pattern recognition on 3D surface topography

Metrology possible on perforated wafers

Trench shape metrology: AR up to 15:1, ø down to 3.0 µm

TSV shape metrology: AR up to 15:1, ø down to 5.0 µm

3D defect detection (white light interferometry)

Nano-roughness metrology down to 10 nm resolution

Edge bead metrology

Single-layer film stress maps

Laser autofocus (bowed wafers)

Single sensor capable of sub-angstrom vertical resolution, independent of view

High throughput system (40wph, 5 sites/wafer, in 2D metrology)

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