KDF Electronics & Vacuum Services Inc. / 943 GT

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Laboratoire d'assemblage de semi-conducteurs / Autres / Pulvérisation horizontale

KDF Electronics & Vacuum Services Inc. / 943 GT

Fournisseur :

Modèle :

Fonction :

Processus par lequel des atomes sont éjectés d'un matériau cible solide en raison du bombardement de la cible par des particules énergétiques, couramment utilisé pour le dépôt de couches minces

CAPACITÉ:    

Surface libre de point de contact

Dimension de la chambre 7 x 23 x 69,5 pouces (P x H x L)

Dimension de la palette 13 x 13 pouces

Hauteur de la palette jusqu’à 2 pouces

Pompe à vide élevé ≤ 2 × 10-7 Torr

Jusqu’à 3 cathodes 12 x 37,8 cm

Générateur RF 1,5 KW (en option 3 KW)

Alimentation DC Magnetron 10 KW réglable sur 850V ou 30 Amp

Vitesse de numérisation (bidirectionnelle) 2 à 400 cm/min

Niveau de gravure 0,1 à 1,5 KW

Uniformité de l’épaisseur du dépôt sur la palette pour l’aluminium de 1 µm

+/- 5% planaire à l’aide d’aimants à haute uniformité (DC ou RF)

+/- 10% Planaire utilisant des aimants à haute utilisation (DC ou RF)

Dépôt d’uniformité d’épaisseur palette à palette +/- 5% tout type de cathode

Uniformité de la gravure (avec volets mobiles) :

  • Tranche à tranche +/- 7%
  • Sur une tranche +/- 10%

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