Laboratoire intégré des microsystèmes (MEMS) / Gravure sèche / Gravure de relâchement
Primaxx fxP
Fournisseur :
Modèle :
Fonction :
Gravure phase vapeur de silicium et d’oxyde de silicium
Capacités de l’équipement
Primaxx fxP
(VHF)
- Procédé par groupe de tranche (jusqu’à 25)
- Taux de gravure de 0.1 à 10 um/min
- Uniformité de gravure par tranche: ≤ 7%
- Répétabilité de gravure: ≤ 4%
- Sélectivité au silicium > 10 000 : 1
- Recette sélective au nitrure de silicium disponible
Xactix CVE
(XeF2)
- Procédé tranche par tranche
- Taux de gravure de 0.1 à 10 um/min
- Uniformité de gravure par tranche: ≤12%
- Répétabilité de gravure: ≤ 5%
- Sélectivité à l’oxyde > 10 000 : 1
- Recette sélective au nitrure de silicium disponible
