Integrated microsystems laboratory (MEMS) / Dry etching / Silicon etch
Supplier :
Model :
Purpose :
Plasma-enhanced Chemical Vapour Deposition of amorphous Silicon, Silicon Nitride, Tetraethylorthosilicate (TEOS)
CAPABILITY:
SI DRIE module
En naviguant sur notre site, certains témoins peuvent être conservés dans votre navigateur ou récupérés à partir de celui-ci. Ces informations peuvent porter sur vous, vos préférences ou votre appareil et sont principalement utilisées pour s'assurer que le site fonctionne correctement. Les informations ne permettent pas de vous identifier directement, mais peuvent vous permettre de bénéficier d'une expérience Web améliorée. Parce que nous respectons votre vie privée, nous vous donnons l'opportunité de ne pas autoriser ces témoins.
En naviguant sur notre site, certains témoins peuvent être conservés dans votre navigateur ou récupérés à partir de celui-ci. Ces informations peuvent porter sur vous, vos préférences ou votre appareil et sont principalement utilisées pour s'assurer que le site fonctionne correctement. Les informations ne permettent pas de vous identifier directement, mais peuvent vous permettre de bénéficier d'une expérience Web améliorée. Parce que nous respectons votre vie privée, nous vous donnons l'opportunité de ne pas autoriser ces témoins.
