Ulvac Enviro 1Xa

Ulvac Enviro 1Xa

Integrated microsystems laboratory (MEMS) / Dry etching / 02 plasma polymers strip

Ulvac Enviro 1Xa

Supplier :

Model :

Purpose :

Single wafer advanced polymer asher

CAPABILITY:

Choice of plasma sources

Forming gas 3.5% provides the advantage of catalysis for generation of atomic oxygen in plasma

Possibility of additional gas for removal of Bosch process polymers

Excellent uniformity and repeatability

High throughput

End-point detection

Very fast ashing of a variety of polymers:

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