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Trop de stress est aussi néfaste pour les MEMS que pour les humains?

Les parties mobiles des structures MEMS doivent être à faible contrainte mécanique afin de ne pas se déformer lorsque relâchées et libres de mouvement. Une couche mince est régie par des forces internes, soit en tension ou en compression. Le C2MI utilise un procédé unique de fabrication LPCVD des films de Nitrure de silicium et de Polysilicium qui sont à faible contrainte. Ces couches sont déposées à l’aide de fournaises verticales AVP de SPT Microtechnologies. L’épaisseur déposée peut être aussi mince que 150 nm ou être de plusieurs micromètres d’épais avec une non-uniformité de moins de 3%.

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