CAPACITÉ: Choix des sources de plasma Le gax de formage à 3.5% offre l’avantage de la catalyse pour la génération

CAPACITÉ:     Taille de la tranche: 200 mm Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1200 µm Matériau de la tranche: silicone,

CAPACITÉ:     Taille de la tranche: 200 mm Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1200 µm Matériau de la tranche: silicone,

CAPACITÉ:     Gestion automatisée des tranches Modules de nettoyage compatibles pour les processus via cuivre / tungstène via silicium Polissage standard

CAPACITÉ:     Épaisseur d’oxyde thermique: 140 ± 6 nm et 900 ± 20 nm Non uniformité de l’épaisseur de la tranche:

CAPACITÉ:     Taille de la tranche: 200 mm Tranches de production par chargement: 50 Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1700

CAPACITÉ:     Taille de la tranche: 200 mm Tranches de production par chargement: 50 Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1700

CAPACITÉ:     Traitement de tranches de 200 mm et de dispositifs MEMS intégrés en 3D avec des packages de niveau tranche.

CAPACITÉ:     Opération d’entrée / sortie automatisée de pod SMIF de séchage / séchage; Le mini-environnement dans un banc humide garantit

CAPACITÉ:     Opération d’entrée / sortie automatisée de pod SMIF de séchage / séchage; Le mini-environnement dans un banc humide garantit